Wafer silikon

• Wafer Silikon 2 Inci (50.8mm)

  Thk.(μm):280 ± 25 atau mengikut permintaan pelanggan kami
  Rintangan: Lebih besar daripada atau sama dengan 0.001ohm.cm
  Permukaan: Bahagian hadapan digilap, bahagian belakang terukir（SSP）...

  Lebih
• Wafer Silikon 3 inci (76.2mm)

  Orientasi:<111>/<100>/<110>
  Thk.(μm):280 ± 25 atau mengikut permintaan pelanggan kami
  Rintangan: Lebih besar daripada atau sama dengan 0.001ohm.cm

  Lebih
• Wafer Silikon 4 Inci (100mm)

  Gred:Perdana/Gred ujian/Gred ujian
  Pertumbuhan:CZ/FZ
  Permukaan: Kemasan Bahagian hadapan Digilap, bahagian belakang Digilap./Sebelah dua digilap

  Lebih
• Wafer Silikon 5 Inci (125mm)

  Diameter: 125mm
  Jenis P dan jenis N, orientasi:<110>/<111>/<100>
  Rintangan: berdasarkan permintaan pelanggan kami.
  

  Lebih
• Wafer Silikon 6 inci(150mm)

  Zarah: ( Lebih besar daripada atau sama dengan 0.2um): Maks 20ea
  TTV: Kurang daripada atau sama dengan 5um
  BOW & WARP: Kurang daripada atau sama dengan 30um
  

  Lebih
• Wafer Silikon 8 Inci (200mm)

  Permukaan boleh digilap pada satu atau kedua-dua belah, atau ia boleh dibiarkan sebagai hirisan wayar. Ketebalan 725 μm, atau seperti yang anda tentukan.
  Kawalan zarah permukaan sentiasa...

  Lebih
• Wafer Silikon 12 inci (300mm)

  Gred perdana atau gred ujian atau gred dummy.
  Satu bahagian digilap atau dua bahagian digilap atau permukaannya hanya sebagai hirisan wayar. Ketebalan 825μm atau sebagai permintaan anda.

  Lebih
• 76mm-300mm Wafer Silikon Lapped(3"-12")

  Rintangan jongkong awal bahagian atas mungkin 1.5 kali ganda berbanding ekor. Anda boleh mahu doping ringan atau berat.

  Lebih
• Wafer Silikon Coinroll 150mm/200mm/300mm

  Wafer silikon yang dikenali sebagai wafer coinroll digabungkan dengan cara seperti syiling dalam gulungan. Biasanya, ia dihantar dalam kuantiti 50–200 keping dalam bekas styrofoam. Wafer tidak...

  Lebih
• 76mm-300mm Wafer Silikon Terukir(3"-12")

  Apabila bahan kimia haba dan pengoksidaan digunakan pada wafer silikon, lapisan silikon dioksida (SiO2) tercipta. Proses ini dikenali sebagai pengoksidaan haba.

  Lebih
• Wafer Epitaxial Saiz Kecil

  Wafer epitaxial empat inci, lima inci dan enam inci adalah contoh wafer epitaxial saiz kecil.

  Lebih
• Wafer Epitaxial 8 inci & 12 inci

  Gunakan teknik pemendapan epitaksi fasa wap untuk membangunkan kristal pada substrat, kemudian susunkannya mengikut cara yang teratur pada permukaan kristal substrat bawah.

  Lebih